頭孢噻呋注射液膠體磨,頭孢噻呋注射液研磨分散機 混懸劑的質量要求是：藥物本身化學性質應穩定，有效期內藥物含量符合要求；混懸微粒細微均勻，微粒大小應符合該劑型的要求；微粒沉降緩慢，口服混懸劑沉降體積比應不低于0.90，沉降后不結塊，輕搖后應能迅速分散；混懸劑的粘度應適宜，傾倒時不沾瓶壁；

頭孢噻呋膠體磨研磨分散設備。

此次北京某客戶來SGN尋求理想的研磨設備，他們的項目急需上馬，但苦于國產膠體磨的效果達不到（粒徑在15微米以下，原始粒徑50微米）。按照SGN工程師的建議和設備選型，使用了GMSD2000/4高剪切研磨分散機，進行了30分鐘的實驗，實際效果完全符合客戶的預期！

頭孢噻呋膠體磨研磨分散設備的研磨效果 

影響研磨粉碎結果的因素有以下幾點：

1.膠體磨磨頭頭的剪切速率  （越大，效果越好）

2.膠體磨頭的齒形結構（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）

3. 物料在研磨腔體的停留時間，研磨粉碎時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）

4.循環次數（越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好）

頭孢噻呋膠體磨研磨分散設備 是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。

一級由具有精細度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出最終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

GMSD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。